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TiN/Si3N4纳米晶复合膜的微结构和强化机制
纳米
2007/12/13
摘要 采用高分辨透射电子显微镜对高硬度的TiN/Si3N4纳米晶复合膜的观察发现, 这类薄膜的微结构与Veprek提出的nc-TiN/a-Si3N4模型有很大不同: 复合膜中的TiN晶粒为平均直径约10nm的柱状晶, 存在于柱晶之间的Si3N4界面相厚度为0.5～0.7nm, 呈现晶体态, 并与TiN形成共格界面. 进一步采用二维结构的TiN/Si3N4纳米多层膜的模拟研究表明,Si3N4层在厚度...
CVI制备Si3N4p/Si3N4透波材料表征与性能
2007/12/12
摘要 以SiCl4-NH3-H2为反应体系, 采用化学气相渗透(CVI)法制备Si3N4p/Si3N4透波材料. XRF测试表明试样主要含Si、N、O三种元素. XRD测试表明复合材料主要成分为α-Si3N4和非晶沉积物和非晶SiO2, 并有微量的β-Si3N4和晶体Si, 高温热处理可使非晶沉积物转变为α-Si3N4和β-Si3N4. SEM照片显示颗粒团间结合不够致密, 残留气孔偏大. 试样的...